सिलिकॉन में आंतरिक गठजोड़?

2024 लेखक: Elizabeth Oswald | [email protected]. अंतिम बार संशोधित: 2024-01-13 00:07

आंतरिक गेटरिंग से तात्पर्य गेटरिंग से है जिसमें अशुद्धता फँसाने वाली साइटें शामिल हैं जो सिलिकॉन से सुपरसैचुरेटेड ऑक्सीजन को अवक्षेपित करके बनाई गई हैं वेफर। सुपरसैचुरेटेड ऑक्सीजन की वर्षा से ऐसे समूह बनते हैं जो लगातार बढ़ते रहते हैं, ऐसा होने पर वेफर पर दबाव डालते हैं।

सिलिकॉन प्राप्त करना क्या है?

गेटरिंग को एक प्रक्रिया के रूप में परिभाषित किया गया है जिसके द्वारा उपकरण क्षेत्र में धातु की अशुद्धियों कोसिलिकॉन वेफर के पूर्व निर्धारित, निष्क्रिय क्षेत्रों में स्थानीयकृत करके कम किया जाता है।

बाहरी गेट्टरिंग क्या है?

एक्सट्रिंसिक गेट्टरिंग से तात्पर्य गेटरिंग से है जो सिलिकॉन मेश में क्षति या तनाव को विकसित करने के लिए बाहरी साधनों का उपयोग करता है इस तरह से अशुद्धियों को फँसाने के लिए आवश्यक विस्तारित दोष उत्पन्न होते हैं। ये रासायनिक रूप से संवेदनशील ट्रैपिंग साइट आमतौर पर वेफर बैकसाइड पर पाए जाते हैं।

आंतरिक और बाहरी गेट्टरिंग में क्या अंतर है?

एक्सट्रिंसिक गेटरिंग: यह गेटरिंग को संदर्भित करता है जो सिलिकॉन जाली में क्षति या तनाव पैदा करने के लिए बाहरी साधनों का उपयोग करता है ताकि अशुद्धियों को फंसाने के लिए आवश्यक विस्तारित दोष बन सकें। … आंतरिक गेटरिंग: यह गेटरिंग को संदर्भित करता है जो क्रिस्टल में पहले से मौजूद ऑक्सीजन का उपयोग करता है।

क्या हो रहा है सीजेड पद्धति में यह कैसे उपयोगी है?

Czochralski विधि, Czochralski तकनीक या Czochralski प्रक्रिया, क्रिस्टल विकास की एक विधि है जिसका उपयोग किया जाता हैअर्धचालकों (जैसे सिलिकॉन, जर्मेनियम और गैलियम आर्सेनाइड), धातु (जैसे पैलेडियम, प्लैटिनम, चांदी, सोना), लवण और सिंथेटिक रत्न शामिल हैं।