फोटोलिथोग्राफी का प्रयोग आमतौर पर कंप्यूटर चिप्स बनाने के लिए किया जाता है। कंप्यूटर चिप्स का उत्पादन करते समय, सब्सट्रेट सामग्री सिलिकॉन का एक प्रतिरोध कवर वेफर होता है। यह प्रक्रिया सैकड़ों चिप्स को एक साथ एक सिलिकॉन वेफर पर बनाने की अनुमति देती है।
फोटोलिथोग्राफी कैसे की जाती है?
फोटोलिथोग्राफी एक पैटर्न को मास्क से वेफर में स्थानांतरित करने के लिए तीन बुनियादी प्रक्रिया चरणों का उपयोग करती है: कोट, विकसित, एक्सपोज़। पैटर्न को बाद की प्रक्रिया के दौरान वेफर की सतह परत में स्थानांतरित कर दिया जाता है। कुछ मामलों में, जमा पतली फिल्म के पैटर्न को परिभाषित करने के लिए प्रतिरोध पैटर्न का भी उपयोग किया जा सकता है।
इसे फोटोलिथोग्राफी क्यों कहा जाता है?
अर्धचालक लिथोग्राफी (फोटोलिथोग्राफी) - मूल प्रक्रिया । एक एकीकृत सर्किट (आईसी) के निर्माण के लिए सेमीकंडक्टर (जैसे, सिलिकॉन) सब्सट्रेट पर विभिन्न प्रकार की भौतिक और रासायनिक प्रक्रियाओं की आवश्यकता होती है। … लिथोग्राफी शब्द ग्रीक लिथोस से आया है, जिसका अर्थ है पत्थर, और ग्राफिया, जिसका अर्थ है लिखना।
लिथोग्राफी क्यों महत्वपूर्ण है?
लिथोग्राफी एक मास्क में ज्यामितीय आकृतियों के पैटर्न को विकिरण-संवेदनशील सामग्री की एक पतली परत में स्थानांतरित करने की प्रक्रिया है (प्रतिरोध कहा जाता है) अर्धचालक वेफर की सतह को कवर करता है। चित्र 5.1 IC निर्माण में नियोजित लिथोग्राफिक प्रक्रिया को योजनाबद्ध रूप से दिखाता है।
लिथोग्राफिक विधियों में सबसे व्यापक रूप से उपयोग की जाने वाली विधि कौन सी है?
ऑप्टिकललिथोग्राफी एक फोटॉन-आधारित तकनीक है जिसमें एक सिलिकॉन वेफर जैसे सब्सट्रेट पर लेपित एक फोटोसेंसिटिव इमल्शन (फोटोरेसिस्ट) में एक छवि पेश करना शामिल है। सेमीकंडक्टर उद्योग द्वारा नैनो-इलेक्ट्रॉनिक्स के उच्च मात्रा निर्माण में यह सबसे व्यापक रूप से उपयोग की जाने वाली लिथोग्राफी प्रक्रिया है।
